Semitron

El copolímero de acrilonitrilo butadieno estireno (ABS) de Uso General (GP), es un termoplástico rígido con una combinación de propiedades que lo hacen ideal para la más amplia gama de aplicaciones, tiene una buena estabilidad térmica y dimensional y alta resistencia al impacto (también a baja temperatura).

Los productos Semitron® Semiconductor Grade fueron desarrollados para ayudar a diseñadores y usuarios a optimizar el rendimiento del equipo de fabricación de dispositivos. Además, muchos de estos materiales son ideales para entornos específicos en los que se requieren resistencia al desgaste, resistencia química y gestión de la electricidad estática.

Los materiales Semitron® se han desarrollado específicamente para la industria de fabricación de semiconductores, pero también pueden ser adecuados para una amplia variedad de aplicaciones de altas temperaturas, químicamente resistentes y rendimiento, incluyendo perforación y exploración de petróleo y gas, automoción, marina, nuclear, electrónica , los campos médicos y aeroespaciales. El Semitron se fabrica en forma de placa, barra y tubo .

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SEMITRON® PRODUCT FAMILY GRADES

  • GRADOS ESD DISIPATIVOS -ESTATICOS

Semitron ESd 225 copolímero acetal disipativo estático
Semitron ESd 410C polieterimida conductora (Ultem)
Semitron ESd 420 polieterimida disipativa estática (Ultem)
Semitron ESd 420V polieterimida disipativa estática (Ultem)
Semitron ESd 480 polieteretherketone disipativo estático (PEEK)
Semitron ESd 490HR polieteretherketone disipativo estático (PEEK)
Semitron ESd 500HR estática disipativa politetrafluoroetileno (PTFE)
Semitron ESd 520HR poliamida-imida disipativa estática (PAI)

  • NIVELES DE PRUEBA DE SEMICONDUCTOR

Semitron MDS-100 baja humedad alta resistencia al calor
Semitron MP-370 de alta precisión de precisión grado de mecanizado

  • SEMICONDUCTOR CMP GRADOS

Semitron CMP LL5 resistente al desgaste y al químico, blanco
Semitron CMP XL20 de alta resistencia y rigidez, negro

  • GRADOS DE PROCESO DE ETCH DE PLASMA
Semitron MPR-1000 resistente al oxígeno para cámaras de plasma